Dubbelfokuslaser sweis tegnologieis 'n gevorderde lasersweismetode wat twee fokuspunte gebruik om die stabiliteit van die sweisproses en die kwaliteit van die sweislas te verbeter. Hierdie tegnologie is in baie aspekte bestudeer en toegepas:
2. Toepassingsnavorsing van dubbele fokuslaser sweiswerk: Op die gebied van lugvaart het die Nasionale Lasersentrum (WNNR: Nasionale Lasersentrum) van die Suid-Afrikaanse Navorsingsentrum vir Wetenskap en Nywerheid navorsing gedoen oor die lasersweistegnologie van martensitiese verouderingstaal vir missielenjinomhulsels en gevind dat dubbelstraallaser sweiswerk het die beste sweisformasie en goeie prosesherhaalbaarheid gehad.
3. Die aanpasbaarheid van dubbelfokus lasersweistegnologie by spesifieke materiale: Pang Shengyong en ander van Huazhong Universiteit van Wetenskap en Tegnologie het die stabiliteit van die sleutelgat en die vloei binne die gesmelte poel van aluminiumlegering bestudeer onder die reeksrangskikking van laser dubbel- fokus. Die resultate toon dat dubbelfokus lasersweiswerk meer stabiel en beheerbaar is, en die fluktuasie van die sleutelgat is aansienlik swakker as dié van enkellasersweiswerk.
4. Ontwerp en beheer tegnologie van dubbelfokus lasersweiskop: Daar is studies wat toegewy is aan die ontwikkeling van nuwe laserkoppe en die verbetering van die fokuseienskappe van lasers om die wydverspreide toepassing van lasersweistegnologie en die ontwikkeling van die lugvaartvervaardigingsbedryf te bevorder.
5. Die invloed van dubbelfokus lasersweis op sweisvorming en organisasie: Deur die studie vanvesel laser sweiswerkvan dupleks vlekvrye staal, is gevind dat die laserfokusposisie die temperatuurveldverspreiding van die las beïnvloed het, die boonste gedeelte van die sweislas het geleidelik vernou en verkort, en die aantal porieë in die sweislas het aansienlik afgeneem.
Hierdie studies toon dat dubbelfokus lasersweistegnologie sweisdefekte effektief kan verminder, die stabiliteit van die sweisproses kan verbeter, en breë toepassingsvooruitsigte het.
Pos tyd: Jul-26-2024
